|
Opcje które właśnie wybrałeś, powiedzą SYPRUSowi że:
|
Wybierz polecenie Select Process Params... z menu Process.
Wyświetli się okienko dialogowe z listą skrótowych nazw wszyskich parametrów kroków wytwarzania. Podświetlone nazwy wskazują parametry które są wybrane do zachowania w pliku wyjściowym podczas symulacji statystycznej. Wybierz kilka parametrów i naciśnij przycisk OK. Uwaga: jeżeli odpowiednie pole All jest zaznaczone na oknie wyboru trybu symulacji wszystkie parametry będą zachowane bez względu na wybór. |
|
Wybierz polecenie Select Output Params... z menu Process.
Wyświetli się okienko dialogowe z trzema listami. Listy te zawierają skróty wielkości które są obliczane w czasie symulacji procesu i kształtowania elementu. Podświetlone nazwy wskazują wielkości które są wybrane do zachowania w wyjściowym pliku podczas symulacji statystycznej. |
|
|
|
Lista najbardziej z lewej strony zawiera zbiór parametrów które ogólnie charakteryzują
stucture CMOS, takich jak np. dozowanie domieszek, koncentracja domieszek
powierzchni studni itp. Pozostałe dwie listy zawierają nazwy wielkości
skojarzone ze strukturami kanałów typu n i p elementów MOS. Wielkości
te bedą wyliczne i zapisane do pliku wyjściowego dla każdego tranzystora
zdefiowanego w pliku procesu.
Wybierz kilka parametrów i naciśnij przycisk OK. Uwaga: jeżeli odpowiednie pole All jest zaznaczone na oknie wyboru trybu symulacji wszystkie parametry będą zachowane bez względu na wybór. |
| Wybierz polecenie Simulate z menu Process |
|
|
| Wyświetli się małe okno stanu (status window). Zauważymy, ze symulacja procesu nominalnego jest wykonywana pierwsza, symulacja statystyczna następuje po niej. Okno stanu pokazuje numer obwodu scalonego symulowanego przez proces wytwarzania i współrzędne symulowanego elementu. Podczas statystycznej symulacji aktywne jest tylko jedno polecenie w menu SYPRUSa: polecenie Stop Simulation w menu Process, które zastępuje polecenie Simulate. Możesz zatrzymać symulację w każdej chwili. |
| Syprus uruchomiony pod kontrolą systemu operacyjnego MacOS 7.x może wykonywać statystyczną symulację w tle. Kiedy statystyczna symulacja jest uruchomiona, możesz się przełączyć do innej aplikacji, a SYPRUS będzie kontynuował swoje zadania. Kiedy SYPRUS jest uruchmiony w tle, możemy go przełączyć na pierwszy plan klikając na jedno z jego okien, lub wybierając go z menu aplikacji. |
|
|
Kiedy symulacja jest zakończona, SYPRUS wyświetla znane nam już okienko
dialogowe. Mówi nam ono, że symulacja jest skończona i pokazuje zapisane
pliki. Okno to może także zawierać pewne informacje dodatkowe.
Zwolnij okienko klikając przycisk OK. |
|
| Jeżeli symulacja odbywała się w tle, ostrzeżenie mowiące że symulacja została zakończona jest wyświetlone na pierwszym planie (przed wszyskimi otwartymi oknami), ale sami musimy przywrócić SYPRUSa do pierwszego planu. Kliknij OK, a następnie kliknij na jednym z okien SYPRUSa lub wybierz "SYPRUS" z menu "Applications". |
Symulacja statystyczna jest już zakończona. Popatrzmy na wyniki. Zostały zapisane dwa pliki wyjściowe z wynikami statystycznymi: nCMOS0.7.st i nCMOS0.7.inp. Plik nCMOS0.7.inp zawiera wartości zakłóconych parametrów procesu, a plik nCMOS0.7.st zawiera wyniki symulacji statystycznej. Oba mogą być otwierane przez StatIC. Wewnętrzna struktura obu plików jest bardzo podobna. Mimo że nie są one plikami tekstowymi z punktu widzenia systemu operacyjnego Macintosh, zawierają one jedynie czysty tekst ASCII i mogą być oglądane przez dowolny edytor tekstowy, który może otwierać pliki dowolnego typu. Przykład pokazuje wewnętrzną strukture tych plików.
Zauważmy, że parametry elementu są powtórzone dla każdego tranzystora. Na przykład, jeżeli napięcie progowe tranzystora z kanałem typu n (skrócona nazwa: VTON) zostało wybrane do danych wyjściowych, plik wyjściowy zawiera wartość ogólnego (generic) tranzystora z kanałem typu n (np. tranzystor z bardzo dużymi wymiarami kanału) i wartości dla wszystkich tranzystorów zdefiniowanych w pliku procesu. Nazwa parametru dla wartości ogólnych - "generic" jest VTON, a nazwy VTON1, VTON2, etc. oznaczają wartości dla tranzystorów zdefiniowanych w pliku procesu. Taka konwencja nazewnictwa jest stosowana do wszystkich parametrów elementu.
Zwróćmy uwagę że ostatnim parametrem jest RADIUS. Jest on zawsze dodawany, nie ma potrzeby go zaznaczać. Jak już wiemy, SYPRUS zakłada że niektóre parametry procesu mogą pokazywać promienisty rozkład na warstwie. W wyniku, parametry elementów mogą także zależeć od pozycji na warstwie. Od kiedy wartość RADIUS (w mikrometrach) jest zawsze zapisywana dla każdego symulowanego układu, jest możliwa obserwacja związku pomiędzy pozycją elementu na warstwie i jego parametrami elektrycznymi.